产品领域
Product Field
RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列
业界当先的卷对卷双面直写光刻解决规划，，引领高精度引线框架制作。双面同时曝光设计保障双面图案高度一致性和对准精度。该系统选取DMD技术，，通过高精度的资料解析能力，，最小可实现25μm精密线路及优异的线宽一致性和边缘粗糙度，，在保障高品质的同时，，可降低整体运行成本。
产品特点
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无掩模直写曝光
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自动纠偏
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双面同时曝光
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气动涨紧上料
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适应多种尺寸规格需要
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支持多种数据体式（GDSⅡ/Gerber/ODB++）
*以上数据起源于CFMEE尝试室测试了局，，具体情况可能因现实使用环境而有所分歧。本公司保留对有关数据和内容进行调整的权势，，恕不另行通知。
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